在真空鍍膜工藝中，靶材需長期暴露于真空環境卻不易被腐蝕，這背后蘊含著材料科學與表面工程的智慧結晶。以下從多個維度解析其抗侵蝕原理。一、真空環境的特殊屬性真空并非全空無一物，仍殘留少量氣體分子及吸附于器壁的物質。這些殘余成分可能引發化學反應，但真空環境的低氧特性大幅減緩了氧化反應速率。如金屬靶材表面的自然氧化層在真空中形成速度極慢，因缺乏充足的氧氣供應。二、靶材自身的材料特性1.高純度基材：優質靶材選用超純金屬（如鈦、鋁）或穩定化合物（如氧化鋯），雜質含量極低，減少了電化學腐蝕...

徠卡超薄切片機是一種高精度的實驗室設備，廣泛用于生物醫學研究、材料科學和納米技術等領域。其主要功能是將樣品切成極薄的切片，以便進行透射電子顯微鏡（TEM）或掃描電子顯微鏡（SEM）觀察。本文將詳細介紹超薄切片機的切片厚度范圍及其影響因素。一、切片厚度范圍徠卡超薄切片機的切片厚度范圍通常在30~500納米之間。具體厚度可以根據不同的實驗需求進行調整。如在生物醫學研究中，觀察細胞超微結構時，切片厚度通常在50~100納米之間；而在材料科學中，觀察納米材料時，切片厚度可能需要更薄，...

LEICA三離子束切割儀可對軟硬復合型或應力敏感型材料樣品進行離子束轟擊，獲得樣品截面，便于SEM觀察樣品內部結構信息及分析。它的觸摸屏操控是實現精準切割的關鍵操作環節，以下是相關操控指南：開啟設備后，觸摸屏會顯示初始界面，上面呈現著各個功能板塊的圖標。首先要進入參數設置區域，這里可以對離子束的能量、束流大小以及切割速度等關鍵參數進行設定。比如，根據待切割材料的厚度和材質特性，通過點擊相應的能量調節滑塊，逐步調整離子束的能量值，同時觀察旁邊顯示的能量數值變化，確保其處于既能有...

高真空鍍膜儀是一種在高真空環境下進行薄膜沉積的設備，廣泛用于半導體、光學、材料科學等領域。濺射技術是鍍膜儀中常用的一種薄膜沉積方法，通過調節濺射電流可以精確控制薄膜的沉積速率和質量。本文將詳細解析鍍膜儀中濺射電流的調節方法。濺射電流是指在濺射過程中，施加在靶材上的電流。濺射電流的大小直接影響靶材的濺射速率，進而影響薄膜的沉積速率和質量。濺射電流的調節是確保薄膜沉積均勻性和重復性的關鍵。濺射電流的大小直接影響靶材的濺射速率。通過調節濺射電流，可以精確控制薄膜的沉積速率，從而實現...

在原子力顯微鏡中，探針是關鍵的組成部分之一。它不僅決定了成像的分辨率，還直接影響到測量結果的準確性和可靠性。其中的長徑比是一個非常重要的參數，它對AFM的性能有著多方面的影響。長徑比是指探針長度與其直徑之間的比值。這個比例關系對于探針的剛性和靈敏度有直接影響。一般來說，較高的長徑比意味著探針更細長，這有助于提高空間分辨率，但同時也可能帶來一些挑戰。1.剛性：長徑比高的探針通常剛性較差，容易在掃描過程中發生彎曲或振動，從而影響成像質量。2.靈敏度：相反地，較低的長徑比雖然增加了...

在現代材料科學研究和特殊制造業中，精確的表面處理技術是提升產品性能和質量的關鍵。LEICA三離子束切割儀作為先進的表面處理設備，在材料科學領域扮演重要的角色。它利用高度聚焦的離子束對樣品表面進行精確切割和拋光，廣泛應用于掃描電鏡（SEM）和其他高精度分析設備的樣品制備。三離子束切割儀通過加速幾乎離子化的氬離子轟擊樣品表面，以無機械應力和磨料污染的方式對樣品表層區域進行去除。該設備通常配備有三把離子槍，每把離子槍都能發射出高能離子束，這些離子束可以垂直或以一定角度射向樣品表面，...

在材料科學、生物學、地質學等眾多領域的研究中，獲得高質量的材料橫切面和拋光表面對于微觀結構分析至關重要。三離子束切割儀作為一種先進的設備，在這方面發揮了特殊的作用。三離子束切割儀有三個離子束源，其中兩個離子束以一定角度從樣品兩側斜向轟擊，這種斜向轟擊可以有效去除樣品表面的材料，逐漸暴露出內部結構。而第三個離子束垂直于樣品表面，對已經處理過的區域進行精細加工，確保橫切面或拋光表面的平整度和光滑度。這些離子束通常是由氬氣等惰性氣體離子化產生的，離子在電場加速下獲得足夠的能量，對樣...